SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam 

Ein reichhaltiger Reinigungsschaum, mit dem idealen pH-Wert von 5, welcher effektiv Make-up und Unreinheiten entfernt, ohne die Haut zu strapazieren.

Dieser leicht bräunliche Ampullen-Reinigungsschaum besitzt einen optimalen pH-Wert von 5 und ist daher sehr schonend, da er die Hautbarriere nicht reizt. Der durch Reibung mit Wasser entstehende, feine Schaum enthält Natriumpulver, welches Feinstaub effektiv reinigt. Die Haut fühlt sich nach der Anwendung weich, anstatt gespannt oder trocken, an. Zudem enthält der SKIN1004 Madagascar Centella Amoule Foam 33 % Centella Asiatica-Extrakt und schont die Hautbarriere intensiv während der Reinigung.

Wie alle Produkte der SKIN1004 Centella Linie enthält diese Ampulle Centella Asiatica, die auf der Insel Madagascar wächst, da sie dort die idealen Wachstumsbedingungen findet, um ihre pflegenden und schützenden Eigenschaften optimal zu entfalten.

Empfohlen für:

• alle Hauttypen

Kerninhaltsstoffe

Centella Asiatica-Extrakt: Beruhigt und füllt den Feuchtigkeitsgehalt der Haut wieder auf